廣元實驗室凈化對溫濕度有哪些要求
admin 2020-11-07 15:20:13 閱讀
潔凈手術室對溫、濕度有著特殊的要求，因為冬季醫生不宜多空衣服，而病人手術部位要暴露出來，手術室內溫度（temperature)應比一般房間溫度高些。而夏季室溫過高又會引起醫生和病人出汗，不利于手術部位的衛生和手術的順利進行，氣溫過高甚至會引起病人和醫生中暑，所以夏季手術室內溫度又應比舒適性空調房間溫度低些。空氣的相對溫度過大過小都會給病人和醫生帶來不舒適感，相對濕度大還容易給某些細菌（fungus)提供迅速繁殖的條件并帶來其它危害。因此，根據國外資料統計，手術室內應保持的空氣溫度：冬季為24～26℃，夏季23～26℃；全年的相對濕度為55%～60。
潔凈手術室對溫度（temperature)的要求呈現日益減小的趨勢（trend)。例如在大規模集成電路生產(Produce)的光刻曝光（exposure)工藝中，首先與細胞壁的脂類雙鍵起反應，穿破細胞壁，進入細胞壁內，作用于外殼脂蛋白和內面的脂多糖，使細胞的通透性發生改變，最后導致細胞溶解、壞死。殺菌（fungus)速度極快，殺滅不同特殊結構:莢膜、鞭毛、菌毛有不同的濃度閾值(threshold)。
實驗（experiment)室凈化工程濕度過高產生的問題更多。成都實驗室凈化每類生物安全防護實驗室根據所處理的微生物及其毒素的危害程度各分為四級。各級實驗室的生物安全防護要求依次為：一級最低，四級最高。成都實驗室裝修實驗室按歸屬可分為三類：第一類是從屬于大學或者是由大學代管的實驗室；第二類實驗室屬于國家機構，有的甚至是國際機構；第三類實驗室直接歸屬于工業企業部門，為工業技術的開發與研究服務。相對濕度超過55%時，冷卻(cooling)水管壁上會結露，如果發生在精密(precise)裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅(silicon)片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電(是一種處于靜止狀態的電荷)力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體(semiconductor)器件容易發生擊穿。對于硅片生產(Produce)最佳溫度（temperature)范圍為35—45%。
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